[发明专利]用于半导体晶圆研磨的激光加工设备在审
申请号: | 202010955912.X | 申请日: | 2020-09-12 |
公开(公告)号: | CN112059422A | 公开(公告)日: | 2020-12-11 |
发明(设计)人: | 管迎春;李欣欣 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | B23K26/352 | 分类号: | B23K26/352;B23K26/70 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明主要涉及一种用于半导体晶圆研磨的激光加工设备,属于激光加工设备领域,主要包括可适应不同直径晶圆的专用夹具、激光测量计、激光发射模块、X轴运动系统、Y轴运动系统、Z轴运动系统、可升降激光加工工作台、数据传输线缆、工控机、人机界面。与现在常用的晶圆研磨设备相比,该发明采用短脉冲激光作为晶圆研磨工具,利用短脉冲激光精密加工特性,可解决化学机械研磨方法引起的热影响和环境污染等问题;激光加工为无接触式加工,可避免因机械力导致晶圆破碎的问题;该发明采用晶圆几何参数自动检测系统,可实现晶圆加工过程中几何参数的自动测量和加工余量的自动判定,可精确控制晶圆研磨质量。 | ||
搜索关键词: | 用于 半导体 研磨 激光 加工 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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