[发明专利]用于半导体晶圆研磨的激光加工设备在审

专利信息
申请号: 202010955912.X 申请日: 2020-09-12
公开(公告)号: CN112059422A 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: 管迎春;李欣欣 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: B23K26/352 分类号: B23K26/352;B23K26/70
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明主要涉及一种用于半导体晶圆研磨的激光加工设备,属于激光加工设备领域,主要包括可适应不同直径晶圆的专用夹具、激光测量计、激光发射模块、X轴运动系统、Y轴运动系统、Z轴运动系统、可升降激光加工工作台、数据传输线缆、工控机、人机界面。与现在常用的晶圆研磨设备相比,该发明采用短脉冲激光作为晶圆研磨工具,利用短脉冲激光精密加工特性,可解决化学机械研磨方法引起的热影响和环境污染等问题;激光加工为无接触式加工,可避免因机械力导致晶圆破碎的问题;该发明采用晶圆几何参数自动检测系统,可实现晶圆加工过程中几何参数的自动测量和加工余量的自动判定,可精确控制晶圆研磨质量。
搜索关键词: 用于 半导体 研磨 激光 加工 设备
【主权项】:
暂无信息
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