[发明专利]形变测量系统、测量形变的方法及测量头有效
| 申请号： | 202010961354.8 | 申请日： | 2020-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN112082499B | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 吴冠豪;周镭;陈芳;张瑞雪;周思宇 | 申请（专利权）人： | 清华大学;北京空间机电研究所 |
| 主分类号： | G01B11/16 | 分类号： | G01B11/16;G01B9/02015;G02B27/10;G02B27/30 |
| 代理公司： | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人： | 郝文博 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种形变测量系统，包括双光梳光源、测距模块、测量光路固定部分、光电探测器，其中所述双光梳光源包括两个具有微小重频差的光频梳，其中第一光频梳发射出信号光用于测距，第二光频梳发射出本振光用于采样；所述测距模块接收所述双光梳光源发出的光束，并将所述信号光输出到所述测量光路固定部分，接收所述信号光从测量光路固定部分反射的回波，将所述本振光与所述反射回波耦合，输出到所述光电探测器上；所述测量光路固定部分固定在待测目标上，将所述信号光分为两路以测量测量臂和参考臂的光程差；所述光电探测器配置成接收所述测距模块输出的耦合光。 | ||
| 搜索关键词： | 形变 测量 系统 方法 | ||
【主权项】：
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