[发明专利]一种轴向高抗冲击性能的方位平台有效

专利信息
申请号: 202010962700.4 申请日: 2020-09-14
公开(公告)号: CN112259951B 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 梁雪松;吕士斌;黄宗卫 申请(专利权)人: 扬州船用电子仪器研究所(中国船舶重工集团公司第七二三研究所)
主分类号: H01Q1/12 分类号: H01Q1/12;H01Q3/02
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 岑丹
地址: 225001 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提出了一种轴向高抗冲击性能的方位平台,包括安装盘、旋转轴承、驱动齿轮、电机、平台支架及角度编码器,所述旋转轴承设置在平台支架上,所述驱动齿轮与旋转轴承啮合,所述电机用于通过驱动齿轮带动旋转轴承旋转,所述安装盘设置在旋转轴承上,所述安装盘中心设有安装轴,所述安装轴穿过旋转轴承中心,所述角度编码器设置在旋转轴承下方,并套在安装盘的安装轴上。本发明结构紧凑,可靠性高;本发明布局合理,整体结构可系列化设计。
搜索关键词: 一种 轴向 冲击 性能 方位 平台
【主权项】:
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