[发明专利]光敏装置与制造光敏装置的方法

摘要

本发明实施例涉及光敏装置与制造光敏装置的方法。本揭露提供一种光敏装置，所述光敏装置包含：衬底，其包含前表面处的硅层；光敏性构件，其延伸到所述硅层中且由所述硅层至少部分地环绕；及超晶格层，其放置于所述光敏性构件与所述硅层之间，其中所述超晶格层包含第一材料及不同于所述第一材料的第二材料，所述超晶格层的接近于所述光敏性构件的一部分处的所述第二材料的第一浓度大于所述超晶格层的远离于所述光敏性构件的一部分处的所述第二材料的第二浓度。