[发明专利]基于复合跟踪微分器实现自抗扰改进控制的方法、结构、装置及存储介质在审
| 申请号： | 202010973021.7 | 申请日： | 2020-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN112051730A | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 郑之开;吴昊;陈豫;朱成坤 | 申请（专利权）人： | 上海维宏电子科技股份有限公司;上海维宏智能技术有限公司;上海维宏自动化技术有限公司 |
| 主分类号： | G05B11/42 | 分类号： | G05B11/42 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁;郑暄 |
| 地址： | 201108 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种激光切割随动控制系统中基于复合跟踪微分器实现自抗扰改进控制的方法，包括由第一跟踪微分器和第二跟踪微分器组成复合跟踪微分器，得到复合跟踪微分器的微分表达式；对复合跟踪微分器在零初始条件下进行拉斯变换，得到参考信号和跟踪输出传递函数；通过前馈补偿的方式引入零点，并通过修改系数补偿系数α对零点进行配置。本发明还涉及一种实现自抗扰改进的复合跟踪微分器结构。采用了本发明的激光切割随动控制系统中基于复合跟踪微分器实现自抗扰改进控制的方法、复合跟踪微分器结构、装置及计算机可读存储介质，相比较于常用的跟踪微分器，复合跟踪微分器能够更好地平衡跟踪相位滞后以及微分信号提出中噪声放大的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 复合 跟踪 微分 实现 改进 控制 方法 结构 装置 存储 介质 | ||
【主权项】：
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