[发明专利]包括存储器单元及选择栅极的组合件在审

专利信息
申请号: 202010973610.5 申请日: 2020-09-16
公开(公告)号: CN112530973A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: J·D·霍普金斯;G·玛塔米斯 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157;H01L27/11578
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王龙
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请案涉及包括存储器单元及选择栅极的组合件。一些实施例包含一种组合件,其具有包含电介质层级及导电层级的存储器堆叠。选择栅极结构在所述存储器堆叠上方。沟槽延伸穿过所述选择栅极结构。所述沟槽沿着横截面具有第一侧及相对的第二侧。所述沟槽将所述选择栅极结构分成第一选择栅极配置及第二选择栅极配置。空隙在所述沟槽内且横向地在所述第一选择栅极配置与所述第二选择栅极配置之间。通道材料柱延伸穿过所述存储器堆叠。存储器单元沿着所述通道材料柱。
搜索关键词: 包括 存储器 单元 选择 栅极 组合
【主权项】:
暂无信息
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