[发明专利]一种伪装目标与背景光谱一致性分析方法有效
| 申请号： | 202010975742.1 | 申请日： | 2020-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN112115850B | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 陈宗阳;吕永胜;彭锐晖;赵辉;王向伟;高鑫;沙香港 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工程大学 |
| 主分类号： | G06V20/10 | 分类号： | G06V20/10;G06V10/58 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明提供一种伪装目标与背景光谱一致性分析方法，所述方法包括：伪装目标与背景光谱信息预处理、信息存储、特征光谱建模分析、目标与背景光谱拟合比对、一致性评估；所述输入的伪装目标与背景光谱信息经所述预处理模块的处理后传输至所述信息存储模块进行存储，所述信息存储模块将存储的光谱信息传输至所述特征光谱建模分析模块、目标与背景光谱拟合比对模块；比对结果传输至所述一致性评估模块，最终输出伪装目标与背景的光谱一致性结果。本发明可应用于目标侦察、环境融入性分析等领域，能够在动态场景下实现对目标和其所处背景在光谱维一致性的准确分析和计算，消除因场景变化对目标的光谱信息分析带来的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 伪装 目标 背景 光谱 一致性 分析 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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