[发明专利]一种通过频率调控Nb掺杂的PZST基驰豫反铁电薄膜制备方法在审

专利信息
申请号: 202010979480.6 申请日: 2020-09-17
公开(公告)号: CN112142464A 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 彭彪林;张苗苗 申请(专利权)人: 广西大学
主分类号: C04B35/493 分类号: C04B35/493;C04B35/622;C23C26/00
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 卢波
地址: 530004 广西*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明涉及一种通过频率调控Nb掺杂的PZST基驰豫反铁电薄膜制备方法,属于铁电功能材料领域。一种通过频率调控Nb掺杂的PZST基驰豫反铁电薄膜制备方法,是将LaNiO3前驱体溶液旋涂于衬底上制得湿膜;所得产品干燥、热解,退火制得单层LaNiO3薄膜;重复以上两个步骤,制得多层LaNiO3复合基底;将Pb0.99Nb0.02(ZrxSnyTi1‑x‑y)0.98O3前驱体溶液旋涂于所得的LaNiO3复合基底上制得凝胶湿膜;将所得凝胶湿膜干燥、热解、退火制得单层Nb掺杂的PZST薄膜;重复以上两个步骤制得多层Nb掺杂的PZST薄膜。本发明的有益效果是:获得一种致密性好、平均晶粒尺寸小、高介电常数、电场击穿强度大、制冷温度较大等优点的反铁电薄膜;本发明制备方法相对简单,是一种高效低成本的制备技术。
搜索关键词: 一种 通过 频率 调控 nb 掺杂 pzst 基驰豫反铁电 薄膜 制备 方法
【主权项】:
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