[发明专利]一种基于同轴圆结构的X射线抗散射格栅在审

专利信息
申请号: 202010984386.X 申请日: 2020-09-12
公开(公告)号: CN112089432A 公开(公告)日: 2020-12-18
发明(设计)人: 沈龙;任安业;龚振邦;刘亮;金红梅;王培军;丁卫;于灜洁;周文静;陈勇 申请(专利权)人: 上海创投机电工程有限公司
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03;A61B6/00;G01N23/04;G01N23/046;G01V5/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201705 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种光学成像设备,用于改善X射线图像质量的一种基于同轴圆结构的X射线抗散射格栅,应用于医学影像诊疗、工业无损检测、安保检测等领域X光机和CT检测设备中。本发明用于通过过滤由所研究的被测人体、器官和物品散射的光子,并仅保留由源发射的光子来改善X射线照相影像。提供一种基于同轴圆结构的X射线抗散射格栅,既要解决减少X射线散射辐射对检测图像质量分辨率干扰的影响,又能因X射线直接辐射减少而对检测图像质量退化的影响,有效提高现有技术中存在X射线检测影像分辨率较低、误差较大等问题,明显提高X射线影像检测的图像质量,或为得到相同检测图像质量情况下,可减少对被测患者或物体暴露于较高剂量的辐射损害。
搜索关键词: 一种 基于 同轴 结构 射线 散射 格栅
【主权项】:
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