[发明专利]一种基于同轴圆结构的X射线抗散射格栅在审
申请号: | 202010984386.X | 申请日: | 2020-09-12 |
公开(公告)号: | CN112089432A | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 沈龙;任安业;龚振邦;刘亮;金红梅;王培军;丁卫;于灜洁;周文静;陈勇 | 申请(专利权)人: | 上海创投机电工程有限公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03;A61B6/00;G01N23/04;G01N23/046;G01V5/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201705 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种光学成像设备,用于改善X射线图像质量的一种基于同轴圆结构的X射线抗散射格栅,应用于医学影像诊疗、工业无损检测、安保检测等领域X光机和CT检测设备中。本发明用于通过过滤由所研究的被测人体、器官和物品散射的光子,并仅保留由源发射的光子来改善X射线照相影像。提供一种基于同轴圆结构的X射线抗散射格栅,既要解决减少X射线散射辐射对检测图像质量分辨率干扰的影响,又能因X射线直接辐射减少而对检测图像质量退化的影响,有效提高现有技术中存在X射线检测影像分辨率较低、误差较大等问题,明显提高X射线影像检测的图像质量,或为得到相同检测图像质量情况下,可减少对被测患者或物体暴露于较高剂量的辐射损害。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 同轴 结构 射线 散射 格栅 | ||
【主权项】:
暂无信息
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