[发明专利]一种掩膜版的制作方法及彩膜基板的制作工艺在审
| 申请号： | 202010986668.3 | 申请日： | 2020-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN111965887A | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 吴杰明;黎源;张峰;李岩 | 申请（专利权）人： | 信利（仁寿）高端显示科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1339;G03F7/00 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 刘春风 |
| 地址： | 620500 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜版的制作方法及彩膜基板的制作工艺，包括以下步骤：在第一透明衬底基板的一侧面制作透过率为5‑15%的第一光阻层用于彩膜基板的遮光层制作；蚀刻第一光阻层形成黑矩阵层以预留第一通孔，第一通孔对应彩膜基板中彩色色阻层的位置；先在黑矩阵层上开第一全透孔，再在黑矩阵层的外表面制作透过率为15%‑40%的第二光阻层，用于彩膜基板的主柱状隔垫物和辅柱状隔垫物的制作；在第二光阻层和黑矩阵层上开第二全透孔用于彩膜基板的主柱状隔垫物的制作，这样利用一道掩膜版就可以同时制作彩膜基板上的主柱状隔垫物、辅柱状隔垫物和遮光层，有效降低了掩膜版的生产成本和减少了一道产品制程成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 制作方法 彩膜基板 制作 工艺 | ||
【主权项】：
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