[发明专利]一种待测样品形貌测量装置及方法在审
申请号: | 202010988971.7 | 申请日: | 2020-09-18 |
公开(公告)号: | CN112179290A | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 刘紫珺;叶星辰 | 申请(专利权)人: | 上海精测半导体技术有限公司 |
主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25;G01B9/02 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201703 上海市青浦区赵巷*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种待测样品形貌测量装置及方法,装置包括光源;偏振分光单元;四分之一波片;准直单元;参考单元;光束调整单元和至少一个成像单元,光束调整单元用于调整信号光束与参考光束的传播方向,并将信号光束与参考光束投射至成像单元形成信号图像,信号图像包括参考像点、信号像点和干涉条纹;工件台;控制单元,在对待测样品进行形貌测量时,控制光束调整单元和成像单元形成信号图像,根据信号像点与参考像点在成像单元中的位置偏移量,控制工件台以调整待测样品的倾斜姿态至预设值后,控制成像单元获取干涉条纹以完成对待测样品的形貌测量。本发明以实现对待测样品倾斜姿态的快速测量与对待测样品的快速调整。 | ||
搜索关键词: | 一种 样品 形貌 测量 装置 方法 | ||
【主权项】:
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