[发明专利]抑制拾取线圈平面金属影响的耦合机构参数设计方法有效

专利信息
申请号: 202010989391.X 申请日: 2020-09-18
公开(公告)号: CN112087062B 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 苏玉刚;刘家鸣;孙跃;王智慧;唐春森;戴欣 申请(专利权)人: 重庆大学
主分类号: H02J50/12 分类号: H02J50/12;H02J50/70;H02J50/90;H01F27/28;H01F27/34;H01F38/14
代理公司: 重庆敏创专利代理事务所(普通合伙) 50253 代理人: 陈千
地址: 400044 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明涉及磁耦合无线电能传输技术领域,具体公开了一种抑制拾取线圈平面金属影响的耦合机构参数设计方法,耦合机构包括拾取线圈和与拾取线圈相隔传输距离d的发射线圈;拾取线圈包括主线圈,以及从主线圈末端引出并反绕主线圈的抑制线圈,抑制线圈内径为g,外径为l,主线圈与抑制线圈之间相隔第一预设距离a4;主线圈和抑制线圈均为圆形,主线圈的内径为e,外径为c。拾取线圈通过在主线圈外反向绕制抑制线圈,可抑制线圈范围外与金属环境耦合的磁通,削弱金属对线圈自感、内阻、互感的影响,提高MC‑WPT系统在金属平面的工作效率,降低MC‑WPT工作中在金属内产生的涡流损耗,提升MC‑WPT系统的安全性。并且该耦合机构结构简单,易于推广应用。
搜索关键词: 抑制 拾取 线圈 平面 金属 影响 耦合 机构 参数 设计 方法
【主权项】:
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