[发明专利]薄膜制备装置、薄膜制备装置的控制方法与控制装置

摘要

本申请提供了一种薄膜制备装置、薄膜制备装置的控制方法与控制装置，该薄膜制备装置包括：壳体，具有反应腔体；支撑结构，位于反应腔体内；加热器，位于反应腔体内的支撑结构上；热辐射结构，位于反应腔体的底壁和加热器之间，热辐射结构在加热器上的投影位于加热器的部分区域内，热辐射结构用于向加热器辐射热量。该薄膜制备装置在反应腔体的底壁和加热器之间加入热辐射结构，辐射结构可以向其在加热器上对应的投影区域辐射热量，来调整加热器的部分区域温度，从而可以调整加热器位于对应投影区域上的这部分薄膜的相关参数，即该薄膜制备装置通过热辐射结构可以调整加热器上的薄膜的局部的相关参数，进而保证了薄膜局部相关参数的均匀性。