[发明专利]一种光栅结构的硅基全硅表面吸收探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010997856.6 申请日: 2020-09-21
公开(公告)号: CN112201707B 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 崔积适;王娟;崔文静;陈洪敏 申请(专利权)人: 三明学院
主分类号: H01L31/0232 分类号: H01L31/0232;H01L31/0352;H01L31/105;H01L31/18
代理公司: 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222 代理人: 杨唯
地址: 365000 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供一种光栅结构的硅基全硅表面吸收探测器,包括:衬底层,所述衬底层是SOI;硅光波导层,形成于所述衬底层上;光栅层,形成与所述衬底层上,并与所述硅光波导层耦合连接;其中,所述光栅层包括本征区以及位于所述本征区两侧的P型区和N型区;电极,包括阳极和阴极;其中,所述阳极设置于所述N型区,所述阴极设置于所述P型区。本发明通过表面光栅结构较直波导结构增加了表面区域,从而有效增加了吸收面积,进而提高了响应度;光栅结构形成谐振腔,使光能量较好的限制在光栅结构内部,被多次吸收。
搜索关键词: 一种 光栅 结构 硅基全硅 表面 吸收 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
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