[发明专利]一种磁控溅射真空镀膜机在审
申请号: | 202011004498.0 | 申请日: | 2020-09-22 |
公开(公告)号: | CN112126904A | 公开(公告)日: | 2020-12-25 |
发明(设计)人: | 黎方建 | 申请(专利权)人: | 黎方建 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 405400 重*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本发明涉及镀膜设备技术领域,且公开了一种磁控溅射真空镀膜机,包括箱体,所述箱体的上表面固定安装有箱盖,所述箱盖的顶部固定套装有抽真空管。该磁控溅射真空镀膜机,通过抽气管与凸管的配合,在阀门的控制作用下,能够对相对应的凸管进行抽气控制,有效的防止抽气功耗的浪费,在进行更换工件时,对哪一个料架进行抽出时,只需要打开相对应的阀门,就可以将吸力对应到凸管内,不需要将整个设备罩住进行抽气,保证抽气动能功耗保证在最小,降低建造成本,在更换完工件后,将工件推进的过程中,即可将携带的空气抽走,防止空气中携带的灰尘进入到箱体内,对工件镀膜造成影响,工件镀膜后达不到合格标准,保证工件的合格率。 | ||
搜索关键词: | 一种 磁控溅射 真空镀膜 | ||
【主权项】:
暂无信息
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