[发明专利]声表面波器件的制造方法在审
| 申请号： | 202011006739.5 | 申请日： | 2020-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN112511125A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 刘项力;沈旭铭 | 申请（专利权）人： | 广东广纳芯科技有限公司 |
| 主分类号： | H03H3/10 | 分类号： | H03H3/10;H03H9/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 宋俊寅;张鑫 |
| 地址： | 510700 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种声表面波器件的制造方法，其采用非连续性低温溅射工艺。非连续性低温溅射工艺包括如下步骤：通过溅射以沉积第1薄膜层的第一步骤；在第1时间间隔内对所述沉积的第1薄膜层进行第1降温处理的第二步骤；对所述第1降温处理后的第1薄膜层进行等离子体轰击处理的第三步骤；在第2时间间隔内对所述等离子体轰击处理后的第1薄膜层进行第2降温处理的第四步骤；以及在进行了所述第2降温处理后的第1薄膜层上重复执行m次所述第一步骤至所述第四步骤以形成第2薄膜层至第m+1薄膜层的第五步骤，其中m为大于等于1的整数。 | ||
| 搜索关键词： | 表面波 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
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