[发明专利]微凸透镜阵列结构的加工方法有效
| 申请号： | 202011016553.8 | 申请日： | 2020-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN112034540B | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 林源为;袁仁志 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G03F1/80;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 施敬勃 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种微凸透镜阵列结构的加工方法，包括：在透镜基材的表面形成图形化的掩膜液滴，其中，所述掩膜液滴包括亲水性掩膜材料；固化所述掩膜液滴，形成图形化的掩膜层；刻蚀所述掩膜层和所述透镜基材，形成微凸透镜阵列结构，其中，所述透镜基材的被刻蚀速率大于所述掩膜层的被刻蚀速率，所述微凸透镜阵列结构中每个微凸透镜均具有弧形凸面。采用上述技术方案公开的微凸透镜阵列结构的加工方法可以解决目前凸透镜加工过程中存在材料浪费，加工过程较为复杂，加工效率较低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 凸透镜 阵列 结构 加工 方法 | ||
【主权项】：
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