[发明专利]一种用磁控溅射法制作磁编码器用微型磁栅及其制作方法在审
| 申请号： | 202011020267.9 | 申请日： | 2020-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN112304344A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 姜文娟;生迪迪 | 申请（专利权）人： | 东北电力大学 |
| 主分类号： | G01D5/245 | 分类号： | G01D5/245;C23C14/35;C23C14/54;C23C14/16;C22C19/07 |
| 代理公司： | 吉林市达利专利事务所 22102 | 代理人： | 陈传林 |
| 地址： | 132012 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明一种用磁控溅射法制作磁编码器用微型磁栅，其包括：基片、涂层和栅格。磁栅的设计外形呈圆盘状，中心孔状，方便安装，并且在圆盘上有许多栅格，在栅格上覆盖一层磁性材料，磁栅的多少决定着每旋转一周输出的脉冲数，在相同条件下，脉冲数越多，编码器的分辨率就越高；一种用磁控溅射法制作磁编码器用微型磁栅制作方法，可以增加信号的强度，在有限的范围内，增加了栅格的个数，提高了磁编码器的分辨率，提高精度，尺寸可以根据需要制作，兼容大规模集成电路工艺，可以和接口电路集成制造。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 法制 编码 器用 微型 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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