[发明专利]离子束沉积装置以及具有其的沉积系统在审
| 申请号： | 202011020907.6 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112593189A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 朴正宪;金晥均;金硕埙;郑峻昊 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供了离子束沉积装置以及具有其的沉积系统。一种离子束沉积装置包括：用于固定基板的基板组件；相对于基板组件倾斜的靶组件，该靶组件包括具有沉积材料的靶；离子枪，用于将离子束喷射到靶上，使得沉积材料的离子朝向基板组件释放以在基板上形成薄层；以及基板加热器，用于将基板加热到高于室温的沉积温度。 | ||
| 搜索关键词： | 离子束 沉积 装置 以及 具有 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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