[发明专利]一种光学增透防雾薄膜的制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 202011021403.6 申请日: 2020-09-25
公开(公告)号: CN112110654B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 徐荣;杨源;钟璟;左士祥;任秀秀;吴楠桦 申请(专利权)人: 常州大学
主分类号: C03C17/30 分类号: C03C17/30;C09D183/07;C08G77/20;C08G77/06
代理公司: 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 代理人: 谢新萍
地址: 213164 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于光学材料领域,特别涉及一种光学增透防雾薄膜的制备方法及应用。制备方法步骤为:将烯丙基三乙氧基硅烷、正硅酸乙酯溶于无水乙醇中,加入蒸馏水,边搅拌边加入盐酸,制得有机硅聚合溶胶。用浓硫酸和双氧水的混合物对光学基片进行处理,然后超声清洗。用浸渍‑提拉法将清洗后的基片浸入有机硅聚合溶胶中,静置后将基片取出,N2氛围下烘干,制得有机硅光学薄膜。再将制得的薄膜浸泡在臭氧水溶液中,制得光学增透防雾薄膜。经过臭氧处理,增强了薄膜的亲水性,当雾滴接触到薄膜表面时会铺展形成均匀的水膜,避免了因雾滴而产生的光折射和反射,提高了基片的透光率。同时浸泡会使膜表面突出结构被刻蚀掉,膜表面粗糙度会有所降低。
搜索关键词: 一种 光学 增透防雾 薄膜 制备 方法 应用
【主权项】:
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