[发明专利]基于二次衍射的外差光栅干涉测量系统有效
| 申请号： | 202011022001.8 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112229332B | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 朱煜;王磊杰;郭子文;张鸣;成荣;叶伟楠;程朝奎 | 申请（专利权）人： | 清华大学;北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02;G01B9/02;G02B27/28 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 张超艳;董永辉 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于二次衍射的外差光栅干涉测量系统，包括单频激光器、输入光纤、声光调制器、读数头、测量光栅、输出光纤、光电转换单元和电子信号处理部件，单频激光器发出单频激光通过输入光纤进入声光调制器分为参考光和测量光输入至读数头，读数头和测量光栅将所述参考光和测量光形成参考干涉信号和测量干涉信号通过输出光纤发送到光电转换单元，光电转换单元将测量干涉电光信号和参考干涉光信号转换成测量干涉电信号和参考干涉电信号发送给电子信号处理部件，解算出测量光栅的二自由度线性位移。上述系统采用二次衍射光作为测量信号，达到了对信号四次细分的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 二次 衍射 外差 光栅 干涉 测量 系统 | ||
【主权项】：
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