[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202011023223.1 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112599399A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木良 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及等离子体处理装置。提供用于避免由盖环的损耗引起的工艺变化的技术。一个例示的实施方式的等离子体处理装置具备载置台、聚焦环、盖环、导电性环以及高频电源。聚焦环载置于载置台，具有导电性。导电性环载置于盖环。位于聚焦环的外周的第1侧面和位于导电性环的内周的第2侧面彼此相对并分离开。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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