[发明专利]一种对准装置、对准方法及光刻系统有效
| 申请号： | 202011025740.2 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN114253093B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 孙建超 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G02B27/28 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种对准装置、对准方法及光刻系统。对准装置包括光源模块、光场变换模块、探测模块及处理模块；光源模块用于出射第一偏振光，第一偏振光入射至对准标记；光场变换模块用于接收对准标记衍射出的第一光束，并将第一光束沿第一方向的分割线分为第二光束和第三光束，第二光束和第三光束在光场变换模块内沿不同的传输路径传输，在光场变换模块的出射端重叠；探测模块用于接收光场变换模块出射的第二光束和第三光束的叠加光束；处理模块与探测模块连接，用于根据探测模块获取的叠加信号检测对准标记的对准状态。本发明实施例的技术方案，可以实现任意方向的对准标记对准，且不会产生由于光程差导致的信号对比度下降问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对准 装置 方法 光刻 系统 | ||
【主权项】：
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