[发明专利]光源设备、照明装置、曝光装置以及用于制造物品的方法在审
| 申请号： | 202011026364.9 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112558421A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 大阪升 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了光源设备、照明装置、曝光装置以及用于制造物品的方法。为了使包括发光二极管(LED)阵列的光源设备中的被照射面上的光强度分布均匀化，光源设备包括发光二极管(LED)阵列，该发光二极管阵列包括电路，该电路具有基板、该基板上的多个LED芯片以及电源，其中，预定平面被用来自LED阵列的光照亮，多个LED芯片包括放置在该电路的同一列中的第一LED芯片和与第一LED芯片不同的第二LED芯片，并且第一LED芯片具有与第二LED芯片的放置角度不同的放置角度。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 设备 照明 装置 曝光 以及 用于 制造 物品 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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