[发明专利]一种晶格匹配的硅基GaInNP垂直腔面发射激光器在审

专利信息
申请号: 202011033152.3 申请日: 2020-09-27
公开(公告)号: CN112152084A 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 郑君雄;张昭宇;张保平;冉宏宇;王青 申请(专利权)人: 深圳市飞研智能科技有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/187;H01S5/343
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市龙岗区龙城街*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种晶格匹配的硅基GaInNP垂直腔面发射激光器,涉及半导体激光器的技术领域,包括Si衬底,为n型Si单晶片,在Si衬底的上表面按照层状叠加结构从上至下依次设置有n型GaNP缓冲层、n型DBR结构层、GaNP/GaInNP/GaNP多量子阱有源区和p型DBR结构层,在所述Si衬底下表面制备有下电极,在所述p型DBR结构层上表面制备有上电极。本发明可基于晶硅衬底制备得到激射波长在730~950nm之间的垂直腔面发射激光器,可推进硅光子集成技术的发展,加快垂直腔面发射激光器的应用。
搜索关键词: 一种 晶格 匹配 gainnp 垂直 发射 激光器
【主权项】:
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