[发明专利]大规模电子束曝光版图的高精度邻近效应快速矫正方法

摘要

本发明属于电子束邻近效应剂量矫正快速计算领域，公开了一种大规模电子束曝光版图的高精度邻近效应快速矫正方法。本发明首先将需要矫正的版图形状映射在该版图矩阵中，生成电子束曝光的二维版图，然后设置迭代参数，通过快速多极子方法优化卷积过程，并计算邻近效应矫正，最后将矫正至收敛的二维剂量矩阵结果转化为可用于直接曝光的文件格式。本发明实现了大规模电子束曝光版图的高精度邻近效应快速矫正，解决了任意形状的大规模电子束曝光的邻近效应矫正计算，有着低误差率、高收敛速度率和高计算效率的特点，对矫正的计算效率和精度极大提升，具有高计算精度、高计算效率等特点。