[发明专利]磁畴壁移动元件和磁记录阵列在审
| 申请号： | 202011039475.3 | 申请日： | 2020-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN112599660A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 芦田拓也;柴田龙雄 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | H01L43/08 | 分类号： | H01L43/08;H01L43/02;H01L27/22 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦;尹明花 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供能够使磁畴壁的动作稳定的磁畴壁移动元件和磁记录阵列。本实施方式的磁畴壁移动元件具备：配线层，其包括铁磁性体；非磁性层，其位于所述配线层的第一面上；第一导电层，其连接于所述配线层的所述第一面，并且包括铁磁性体；及第二导电层，其与所述第一导电层分隔，并且连接于所述配线层，所述第一导电层的连接面的第一部分与所述配线层直接连接，所述连接面的除了所述第一部分之外的第二部分经由所述非磁性层连接于所述配线层。 | ||
| 搜索关键词： | 磁畴壁 移动 元件 记录 阵列 | ||
【主权项】：
暂无信息
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