[发明专利]使用SiC基材料作为衬底的碳纳米管晶体管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202011040000.6 申请日: 2020-09-28
公开(公告)号: CN112259608B 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 杨扬;李忠辉;霍帅;张东国;孔月婵;陈堂胜 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336;H01L29/16
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 陆烨
地址: 210016 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了使用SiC基材料作为衬底的碳纳米管晶体管及其制备方法,该方法为:1)衬底上设置碳纳米管;2)在碳纳米管上划分出源,漏极区域,并在源,漏极区域制备金属电极;3)在沟道区域上划分出栅极区域,去掉除多余的碳纳米管;4)在沟道区域上制备栅介质;5)在栅介质上制备栅金属,从而完成晶体管的制备。本发明通过使用SiC材料衬底提升散热性能,降低由于温度上升引起的声子散射,有效减少了载流子迁移率降低,提升器件性能,提高器件工作的稳定性。
搜索关键词: 使用 sic 基材 作为 衬底 纳米 晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
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