[发明专利]一种中波红外透明电磁屏蔽薄膜及制备方法有效
| 申请号： | 202011045082.3 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112410734B | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 刘华松;尚鹏;刘丹丹;庄克文;邢宇哲 | 申请（专利权）人： | 天津津航技术物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/18;C23C14/02;C23C14/58;H05K9/00 |
| 代理公司： | 天津市鼎拓知识产权代理有限公司 12233 | 代理人： | 刘雪娜 |
| 地址： | 300000 天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明提供了一种中波红外透明电磁屏蔽薄膜及制备方法，用以解决现有的P型红外透明半导体薄膜导电性较差、载流子浓度较低以及中波红外透过率低的问题。所述电磁屏蔽薄膜制备方法，通过基底清洗、薄膜沉积和对沉积薄膜后的基底进行退火处理，制备出结构为(x |
||
| 搜索关键词： | 一种 中波 红外 透明 电磁 屏蔽 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津津航技术物理研究所，未经天津津航技术物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011045082.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
