[发明专利]基于4f系统的扫描干涉光刻系统有效
| 申请号： | 202011050014.6 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112099121B | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 罗伟文;杨月舳;范玉娇;程朝奎;常密生 | 申请（专利权）人： | 北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 袁文婷 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区科创*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于4f系统的扫描干涉光刻系统，包括光学系统、光束控制系统和载物运动台，硅片放置在载物运动台，所述光学系统产生两束平行光进行汇聚在载物运动台上产生干涉，通过光束控制系统反馈补偿控制两束光相对于安装平板面的移动方向，当两束平行光平行于安装平板面移动时，改变干涉图形周期，当两束平行光于安装平板面外变化时，改变干涉图形方向，通过光束控制系统控制光学系统产生的两束平行光结合载物运动台的运动在硅片上加工干涉图形。所述系统优势在于可以实时改变干涉图形周期和方向，实现高精度实时控制，提高不同栅距光栅的加工效率，降低维护成本，提升加工能力。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 系统 扫描 干涉 光刻 | ||
【主权项】：
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