[发明专利]双工位抛光压力平衡装置在审
| 申请号： | 202011051467.0 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112059886A | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | 刘小平;凌建军;郭克文;彭革辉 | 申请（专利权）人： | 湖南宇环精密制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B27/00;B24B41/06;B24B49/16;B24B41/00;B24B47/20;B24B51/00 |
| 代理公司： | 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) 43213 | 代理人： | 厉田 |
| 地址： | 410000 湖南省长沙*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双工位抛光压力平衡装置，包括固定机座、升降机座、升降机构、一对压力传感器和一对装夹工装，升降机构安装在固定机座上，升降机座安装在升降机构上，一对压力传感器分别安装在固定机座和升降机座上，一对装夹工装分别安装在一对压力传感器上，一对压力传感器以及升降机构之间通过信号联接。该压力平衡装置具有结构简单可靠、能提高产品质量的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 双工 抛光 压力 平衡 装置 | ||
【主权项】：
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