[发明专利]保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片在审
| 申请号： | 202011052837.2 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112625275A | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 小升雄一朗;米山裕之 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L33/08;C08L63/00;C08K13/06;C08K9/04;C08K3/36;C08K7/18;C08K3/08;C08K5/544;C08K3/04;C08K5/00;C08K5/3467;B32B27/36;B32B27/06 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种保护膜形成用膜，其用于在芯片的背面形成保护膜，其中，利用保护膜的波长1400～1500nm下的吸光度的最大值X |
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| 搜索关键词： | 保护膜 形成 复合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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