[发明专利]量子点发光器件、其制作方法及显示装置有效

专利信息
申请号: 202011055725.2 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN112186118B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: 张爱迪;张宜驰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司
主分类号: H10K50/844 分类号: H10K50/844;H10K50/115;H10K71/00;H10K59/35;H10K59/122
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 姚楠
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种量子点发光器件、其制作方法及显示装置,包括:基底;像素界定层,像素界定层包括多个像素开口以及像素分隔体,像素分隔体的表面具有羟基;量子点层,位于像素开口内;聚合物结构,将量子点层封闭在像素开口内,聚合物结构为至少由硅氧烷、巯基化硅氧烷和羟基聚合后形成的全封闭结构,其中硅氧烷与羟基以及巯基化硅氧烷均发生聚合反应,巯基化硅氧烷中巯基的硫原子与量子点层的配位原子结合。本发明通过在量子点层上形成将量子点层封闭在像素开口内的聚合物结构,该聚合物结构为全封闭结构,可以保护量子点层在后续光刻胶显影工艺过程中避免受到溶剂破坏,保持量子点层膜层厚度不变,保护量子点层配体不丢失,提高器件性能。
搜索关键词: 量子 发光 器件 制作方法 显示装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011055725.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top