[发明专利]套刻误差测量装置及其测量方法和优化方法有效
| 申请号： | 202011056590.1 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112198763B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 刘世元;王鹏;陈修国;张劲松;石雅婷 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/956;G01B11/00 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 孔娜;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于光刻相关技术领域，其公开了一种套刻误差测量装置及其测量方法和优化方法，该装置包括：照明系统；设于照明系统光路上的起偏臂，起偏臂沿光路依次包括起偏器、第一相位延迟器、第二相位延迟器以及第一透镜组；与起偏臂沿待测套刻样件表面的法线对称设置的检偏臂，检偏臂沿光路依次包括第二透镜组、第三相位延迟器、第四相位延迟器以及检偏器；设于检偏臂光路上的探测系统，探测系统将检偏臂解调的光束会聚并将光束发送至数据处理系统，数据处理系统将光束转化为穆勒矩阵，并根据穆勒矩阵获得套刻误差。本申请待测套刻样件的套刻标记周期不受限制、测量速度快、测量结果不受运动器件的干扰，测量准确度高，鲁棒性好，适用范围广。 | ||
| 搜索关键词： | 误差 测量 装置 及其 测量方法 优化 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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