[发明专利]一种超精密加工光学微透镜阵列成像性能分析方法和系统在审
| 申请号： | 202011057098.6 | 申请日： | 2020-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN112197942A | 公开（公告）日： | 2021-01-08 |
| 发明（设计）人： | 王素娟;张正;缪国群;孙占文 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 崔玥 |
| 地址： | 510006 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种超精密加工光学微透镜阵列成像性能分析方法及系统。该方法包括：测试微透镜阵列的焦斑、焦距、光学传递函数值和畸变量四种参数；根据各参数对微透镜阵列光学成像性能进行分析。本发明是基于微透镜阵列产品进行光学性能参数测试和分析产品的光学性能，可直接得到微透镜阵列实际的光学性能并作对应分析，更加贴合实际微透镜阵列加工产品带来的光学性能影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 精密 加工 光学 透镜 阵列 成像 性能 分析 方法 系统 | ||
【主权项】：
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