[发明专利]薄膜结构体、其制造方法和包括其的电子器件在审
申请号: | 202011060074.6 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN112582539A | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | 赵常玹;许镇盛;李香淑;金尚昱;李润姓 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L49/02 | 分类号: | H01L49/02;H01L29/423;H01L29/78;H01L27/108 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 金拟粲 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: |
本发明涉及薄膜结构体、其制造方法和包括其的电子器件。本文中公开了薄膜结构体,其包括在包括多个层的介电层上的第一导电层。所述多个层各自包括包含掺杂剂A的掺杂剂层和HfO |
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搜索关键词: | 薄膜 结构 制造 方法 包括 电子器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
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