[发明专利]一种光刻装置在审
| 申请号： | 202011060253.X | 申请日： | 2020-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN112083633A | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 伍强;李艳丽;顾峥 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司;上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;尹一凡 |
| 地址： | 201210 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻装置，包括：对应分设于测量工位和曝光工位下方的第一工件台和第二工件台，所述第一工件台和所述第二工件台在完成针对各自放置的晶圆的操作后，通过作相对水平旋转，实现在所述测量工位和所述曝光工位之间的位置交换。本发明采用双工件台构架的光刻机设计，两个工件台可以同时进行2片硅片操作，并可在完成各自硅片的操作后，通过整体作180度旋转来实现工位交换，因而能节省曝光之外的待机时间，从而有效提高了产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 装置 | ||
【主权项】：
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