[发明专利]一种层状SiOx材料及其制备方法和应用有效
申请号: | 202011060563.1 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN112194138B | 公开(公告)日: | 2022-05-20 |
发明(设计)人: | 杜春雨;任阳;尹旭才;霍华;尹鸽平;左朋建;程新群;马玉林;高云智 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C01B33/113 | 分类号: | C01B33/113;H01M4/48;H01M10/0525 |
代理公司: | 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人: | 王攀 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: |
本发明公开了一种层状SiOx材料,是呈手风琴形状的层状微米级颗粒,所述SiOx材料的粒径尺寸为0.5~20μm,任意相邻层间均存在纳米级宽度的狭缝空隙,所述狭缝空隙的宽度为1~50nm,单个片层厚度为30~40nm;制备方法为:溶解CaSi |
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搜索关键词: | 一种 层状 siox 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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