[发明专利]基于T型栅结构的PN结栅控氧化镓场效应晶体管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011067740.9 申请日: 2020-10-07
公开(公告)号: CN112133756A 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 周弘;雷维娜;燕庆龙;张进成;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336;H01L29/06;H01L29/24;H01L29/423
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;黎汉华
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于T型栅结构的PN结栅控氧化镓场效应晶体管,主要解决目前n型氧化镓场效应晶体管击穿电压较低、泄漏电流较大且不易关断的问题。其自下而上包括:衬底、n‑Ga2O3层,n‑Ga2O3层内部的两边设有离子注入区;n‑Ga2O3层上部的两端设有源电极和漏电极,靠近源电极的区域设有T型栅;n‑Ga2O3层与T型栅之间设有p型NiO薄膜层,该薄膜与n‑Ga2O3层构成p‑n结;该T型栅分别与源电极和漏电极间的n‑Ga2O3层之上设有Al2O3层,在Al2O3层上设有SiN钝化层。本发明提高了器件的击穿电压,减小了泄漏电流,可用于制备高耐压、低功耗的常关型氧化镓器件。
搜索关键词: 基于 结构 pn 结栅控 氧化 场效应 晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
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