[发明专利]基于双光路同步相移干涉的螺旋曲面形状误差的测量方法有效

专利信息
申请号: 202011069823.1 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN112268522B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 王晛;方素平;刘健宁;连天虹 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 弓长
地址: 710048 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于双光路同步相移干涉的螺旋曲面形状误差的测量方法,沿测量光路设置有前光楔、后光楔;沿扫描测量光路设置有结构光传感器,前光楔与后光楔之间放置被测物体。将结构光传感器引入干涉测量装置中,投射的结构光通过在测量过程中与被测物表面的相对运动,结合干涉测量数据,使得在对大螺旋角复杂螺旋曲面进行测量时可以保证全场测量。本发明的测量方法将空间相移技术引入到干涉测量装置中,通过单次测量拍摄能够得到多张移相干涉图,简化了操作流程步骤,提升了装置的抗干扰能力。
搜索关键词: 基于 双光路 同步 相移 干涉 螺旋 曲面 形状 误差 测量方法
【主权项】:
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