[发明专利]复杂内腔叶片氟离子清洗及铝化物涂层制备的方法及装置有效

专利信息
申请号: 202011071362.1 申请日: 2020-10-09
公开(公告)号: CN112430802B 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 彭徽;唐靖宇;郭洪波;宫声凯;徐惠彬 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: C23C16/02 分类号: C23C16/02;C23C16/30;C23C16/54;C23C10/08
代理公司: 北京航智知识产权代理事务所(普通合伙) 11668 代理人: 黄川;史继颖
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种复杂内腔叶片氟离子清洗及铝化物涂层制备的方法及装置,通过CVD对叶片内腔进行氟离子清洗和铝化物涂层制备,叶片内腔氟离子清洗的目的是去除内腔壁残留的氧化物层,为后续化学气相沉积法制备渗铝涂层提供条件。两个过程在CVD设备中一体化完成,无需打开CVD设备,无需取出叶片,不仅可以节约处理时间,还可以避免因中途取出叶片而对叶片造成二次污染,上述方法灵活可控,制备的铝化物涂层的清洁度高,且不会损伤叶片。上述方法尤其适用于具有复杂内腔结构的镍基单晶高温合金导向器叶片及高压涡轮叶片内腔及表面高温防护涂层的化学气相沉积法制备,同时也适用于其他高温合金零部件防护涂层的制备。
搜索关键词: 复杂 叶片 离子 清洗 铝化物 涂层 制备 方法 装置
【主权项】:
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