[发明专利]偏光基板及其制造方法有效
| 申请号： | 202011077774.6 | 申请日： | 2020-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN112162345B | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 林圣凯;钟佳欣;罗再升;黄胜铭;王铭瑞;陈志强;张晖谷;王呈展;林嘉柏;吕仁贵 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京市立康律师事务所 11805 | 代理人： | 梁挥;孟超 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种偏光基板及其制造方法，偏光基板包括基板、反射层以及金属图案层。反射层位于基板上，且具有穿透区以及反射区。金属图案层位于反射层以及基板上。金属图案层包括偏光结构以及微结构。偏光结构包含多个重叠于穿透区的栅线。各栅线的厚度为200纳米至500纳米，各栅线的宽度为30纳米至70纳米，且两相邻的栅线之间的间距为30纳米至70纳米。微结构重叠于反射区，且微结构的厚度为20纳米至500纳米。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司，未经友达光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011077774.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
