[发明专利]一种基于等离子场的球磨装置及方法在审
| 申请号： | 202011078423.7 | 申请日： | 2020-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN112354631A | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 陈波 | 申请（专利权）人： | 深圳市科力纳米工程设备有限公司 |
| 主分类号： | B02C17/10 | 分类号： | B02C17/10;B02C17/16;B02C19/18 |
| 代理公司： | 深圳理之信知识产权代理事务所(普通合伙) 44440 | 代理人： | 曹新中 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明适用于球磨技术领域。本发明公开一种基于等离子场的球磨装置及方法，其中基于等离子场的球磨装置包括密封状态的研磨筒，该研磨筒设有分离器和与驱动轴连接的分散器，所述研磨筒设有能使研磨腔产生等离子场的等离子体发生器，该等离子体发生器包括DBD等离子体电源，所述等离子场位于DBD等离子体电源的阳极和阴极之间。研磨时分散装置，使物料与研磨球及物料与物料接触碰撞，使物料碎裂或表面形成不规则结构，当表面不规则的物料等处于由气体产生等离子体形成等离子场时，高速运动的物料在等离子场内，物料既与研磨介质间有机械作用力，又能充分与等离子体间产生作用，形成复合作用，从而大幅度提高研磨的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 等离子 装置 方法 | ||
【主权项】：
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