[发明专利]一种直线型多功能磁控溅射镀膜设备及镀膜方法在审
| 申请号： | 202011079375.3 | 申请日： | 2020-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN112342513A | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 王占山;齐润泽;吴佳莉;黄秋实;张众 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/04 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 翁惠瑜 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种直线型多功能磁控溅射镀膜设备及镀膜方法，所述设备包括真空腔以及设置于所述真空腔内的移动机构、样品架以及多个靶枪机构，所述移动机构位于真空腔底部，贯穿真空腔，所述样品架设置于移动机构上，所述多个靶枪机构沿所述样品架移动方向排列设置，形成镀膜区域，以实现掠靶式直线镀膜；各所述靶枪机构包括沿溅射方向依次设置的靶枪基座、磁控溅射靶枪、气动挡板和掩膜板，所述磁控溅射靶枪通过多功能连接件安装于靶枪基座上，所述气动挡板连接有控制该气动挡板打开或关闭的控制件，所述掩膜板连接有升降件。与现有技术相比，本发明能够实现在同一块反射镜分区镀制不同结构膜系，降低制备周期，能满足实现不同尺寸反射镜的镀制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 线型 多功能 磁控溅射 镀膜 设备 方法 | ||
【主权项】：
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