[发明专利]一种微沟槽射流抛光装置及抛光方法在审
| 申请号： | 202011080103.5 | 申请日： | 2020-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN112077749A | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 曹中臣;闫升亲;李世鹏;姜向敏;张军鹏 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | B24C1/08 | 分类号： | B24C1/08;B24C9/00;B24C3/04 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 曹玉平 |
| 地址： | 300350 天津市津南区海*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开一种微沟槽射流抛光装置及抛光方法，所述抛光装置包括基座，供液系统，抛光喷嘴和工作台，所述工作台的上表面可拆卸安装一工件固定组件，用于放置待加工的工件，所述工件固定组件对应设置在所述抛光喷嘴的下方；所述工件固定组件包括置物台和固定元件，所述置物台放置设置在所述工作台的上表面，所述置物台的上表面设置有垂直设置的第一凹槽和第二凹槽，其中所述第一凹槽的竖直深度大于所述第二凹槽；所述抛光喷嘴包括毫米级抛光喷嘴和微米级抛光喷嘴，所述固定元件包括盖板和掩膜；当所述抛光喷嘴为微米级抛光喷嘴时，所述固定元件为盖板；当所述抛光喷嘴为毫米级抛光喷嘴时，所述固定元件为掩膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沟槽 射流 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
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