[发明专利]一种耐伽玛射线辐照聚脲材料及其制备方法在审
| 申请号： | 202011094016.5 | 申请日： | 2020-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN112341916A | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 郭辉;陈玉;姜欣怡;蒋林志;卢春江;凌星鹏 | 申请（专利权）人： | 西南科技大学 |
| 主分类号： | C09D175/02 | 分类号： | C09D175/02;C09D7/63;C08G18/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 621010 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种抗伽玛射线辐照聚脲弹性体材料及其制备方法，属于高分子材料合成和核辐照改性交叉领域。该材料由A组分异氰酸酯和B组分聚四亚甲基醚二对氨基苯甲酸酯以及抗氧化助剂等经高压混合后涂刷和灌注而成型。其中A组分控制在20~30质量份、B组分控制在65~75质量份、助剂控制在5~10质量份。本发明利用受阻酚类抗氧化剂来提高聚脲材料的抗伽玛射线辐照性能，通过活性稀释剂来调节伽玛射线辐照对合成材料韧性的影响。所述聚脲材料经伽玛射线照射后其力学性能指标反而有所提高，适合核电站、航天器、医用放射性设备防护涂层等应用场景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 耐伽玛 射线 辐照 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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