[发明专利]异味去除装置和涂胶显影机台有效

专利信息
申请号: 202011096036.6 申请日: 2020-10-14
公开(公告)号: CN112198766B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 李华;闻旭;王琦;赵春雨;张浩;葛斌;吴长明 申请(专利权)人: 华虹半导体(无锡)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 戴广志
地址: 214028 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请公开了一种异味去除装置和涂胶显影机台,该装置包括:挡板,其悬挂于涂胶显影机台的背面散发异味的位置;挂钩,其设置于所述挡板上,用于将挡板悬挂在散发异味的位置;出气管,其设置于挡板上,其一端通孔与散发异味的位置连通,其通孔的另一端与排气管的一端连接,排气管的另一端与I线光刻设备所在的厂房的排气系统连接;其中,挡板上设置有通孔,该通孔用于分配挡板内侧的气体压力。本申请该装置通过通孔能够分配挡板内侧气体压力,通过出气管和排气管能够将散发异味的气体输出至排气系统,从而能够较为彻底地去除I线光刻工艺的涂胶显影机台背面散发的异味。
搜索关键词: 异味 去除 装置 涂胶 显影 机台
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华虹半导体(无锡)有限公司,未经华虹半导体(无锡)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011096036.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top