[发明专利]一种聚焦型光场相机系统的参数设计方法有效
| 申请号： | 202011098002.0 | 申请日： | 2020-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN112235508B | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 刘旭;朱斐越 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | H04N5/232 | 分类号： | H04N5/232 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 颜果 |
| 地址： | 310013 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种聚焦型光场相机系统的参数设计方法，属于计算成像领域。利用聚焦型光场相机结构灵活的特点，从对光场图像的分辨率分析中，得到了光场相机内部几何参数对系统成像效果的影响情况，从而根据实际需要选取合适的系统结构参数，最大化利用已有探测器和光学结构的性能，完成系统的设计。通过几何光学原理，分析主透镜以及微透镜阵列成像关系，通过微透镜成像物像距之比决定空间、角度分辨率的分配，再结合对深度分辨率以及成像深度范围的分析，综合考虑得到聚焦型光场相机的系统设计参数。本发明提出的设计方法，可以为聚焦型光场相机在不同的应用场景提供相应的设计方案，为其在光场深度估计精度的计算方面提供理论依据。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 聚焦 型光场 相机 系统 参数 设计 方法 | ||
【主权项】：
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