[发明专利]一种静电雾化化学气相淀积氧化镓薄膜系统在审
| 申请号： | 202011099684.7 | 申请日： | 2020-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN112111783A | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 宁平凡;李雄杰;牛萍娟;韩丽丽;杨邻峰;韩抒真 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学 |
| 主分类号： | C30B25/08 | 分类号： | C30B25/08;C30B25/16;C30B28/14;C30B29/16 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300387 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种静电雾化化学气相淀积氧化镓薄膜系统，本发明属于化学气相淀积的材料生长领域。本发明主要解决雾化气相淀积氧化镓薄膜过程中雾滴粒径及运动控制问题。一种静电雾化化学气相淀积方法，本方法将镓盐溶液静电雾化作为镓源，在反应腔中进行化学反应；利用反应腔内的载物支撑部分作为生长区，镓盐水溶液经静电雾化后由载气输运，与反应气混合后输运到反应腔，在生长区进行反应；反应腔整体采用立式结构，反应腔体外围配有加热装置，为反应提供所需的热量，反应腔末端输出位置配有废气净化处理装置，反应后的尾气由废气净化处理装置处理。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 静电 雾化 化学 气相淀积 氧化 薄膜 系统 | ||
【主权项】：
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