[发明专利]具有石墨烯栅层的透射式NEA GaAs光电阴极在审
申请号: | 202011103548.0 | 申请日: | 2020-10-15 |
公开(公告)号: | CN112349564A | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
发明(设计)人: | 富容国;段赐琛 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 |
主分类号: | H01J1/34 | 分类号: | H01J1/34;H01J40/06 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 朱炳斐 |
地址: | 210094 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本发明公开了一种具有石墨烯栅层的透射式NEA GaAs光电阴极,包括透过式NEA GaAs光电阴极内芯与真空腔体外壳两部分。其中透过式NEA GaAs光电阴极内芯结构包括自上而下依次设置的Si |
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搜索关键词: | 具有 石墨 烯栅层 透射 nea gaas 光电 阴极 | ||
【主权项】:
暂无信息
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